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“RCVD”是“Reactive Chemical Vapor Deposition”的缩写,意思是“反应性化学气相沉积”

学术与科学类作者 AOETC

英语缩略词“RCVD”经常作为“Reactive Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用,中文表示:“反应性化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词RCVD所代表英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外,还有关于缩略词RCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“RCVD”(“反应性化学气相沉积)释义

  • 英文缩写词:RCVD
  • 英文单词:Reactive Chemical Vapor Deposition
  • 缩写词中文简要解释:反应性化学气相沉积
  • 中文拼音:fǎn yìng xìng huà xué qì xiāng chén jī
  • 缩写词流行度:5470
  • 缩写词分类:Academic & Science
  • 缩写词领域:Chemistry

以上为Reactive Chemical Vapor Deposition英文缩略词RCVD的中文解释,以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词RCVD的扩展资料

  1. Many processes are used to prepare transparent conductive films, such as magnetron sputtering, vacuum reactive evaporation, chemical vapor depositions, Sol-gel, laser-pulsed deposition.
    多种工艺可以用来制备透明导电薄膜,如磁控溅射真空反应蒸发、化学气相沉积、溶胶-凝胶法以及脉冲激光沉积等。

上述内容是“Reactive Chemical Vapor Deposition”作为“RCVD”的缩写,解释为“反应性化学气相沉积”时的信息,以及英语缩略词RCVD所代表的英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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