“EBL”是“Electron Beam Lithography”的缩写，意思是“电子束光刻”

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英语缩略词“EBL”经常作为“Electron Beam Lithography”的缩写来使用，中文表示：“电子束光刻”。本文将详细介绍英语缩写词EBL所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词EBL的分类、应用领域及相关应用示例等。

“EBL”（“电子束光刻）释义

以上为Electron Beam Lithography英文缩略词EBL的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

This paper introduces the development of electron beam lithography around the world and basic fundamentals of pattern generator.
论文分析了国内外电子束曝光技术的发展和图形发生器的工作原理。
A novel process combining the self-assembly technique with electron beam lithography and selective chemical deposition was proposed for patterned film preparation.
本文提出了一种新颖的结合自组装技术和电子束直写曝光以及选择性化学沉积制备图案化薄膜方法。
The composition, principle and working procedure of the application software of EBES-40A electron beam Lithography system are introduced.
本文简要地介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构、工作原理及工作过程；
Furthermore, the parameters acquired by this method are successfully used for proximity effect correction in electron beam lithography on the same experimental conditions.
此外，用此方法提取的电子散射参数被成功地用于相同实验条件下的电子束临近效应校正。
Raster scan electron beam lithography
光栅扫描电子束光刻(EBL)

上述内容是“Electron Beam Lithography”作为“EBL”的缩写，解释为“电子束光刻”时的信息，以及英语缩略词EBL所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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