“IL”是“Interference Lithography”的缩写，意思是“干涉光刻”

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英语缩略词“IL”经常作为“Interference Lithography”的缩写来使用，中文表示：“干涉光刻”。本文将详细介绍英语缩写词IL所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词IL的分类、应用领域及相关应用示例等。

“IL”（“干涉光刻）释义

以上为Interference Lithography英文缩略词IL的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

Optical head supporting sub wavelength structure with UV interference lithography
支持亚波长结构光刻的紫外干涉光学头
The fabrication methods of MPC include electron beam lithography with subsequent evaporation and lift-off, interference lithography with dry-etching technology etc.
制备金属光子晶体方法包括：电子束刻蚀结合后续剥离法、激光干涉光刻(IL)结合干刻蚀技术等。
The limiting feature sizes of laser interference lithography were investigated by changing the variable of energy density.
最后在单一改变能量密度变量的条件下，对激光干涉光刻(IL)的极限尺度进行了研究。
The results show that the method is effective and antinoise in measuring the laser interference lithography patterns.
测量结果证明，对于激光干涉条纹图，该方法是一种有效的测量方法并且具有较高的抗噪声性能。
The results will be useful for the design and alignment of laser interference systems to obtain the desired patterns, in particular for laser interference lithography applications.
研究结果将有利于获得理想图形所需干涉系统的设计和校准，尤其在激光干涉光刻(IL)方面的应用。

上述内容是“Interference Lithography”作为“IL”的缩写，解释为“干涉光刻”时的信息，以及英语缩略词IL所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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