“AVD”是“Atomic Vapor Deposition”的缩写，意思是“原子气相沉积”

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英语缩略词“AVD”经常作为“Atomic Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“原子气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词AVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词AVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“AVD”（“原子气相沉积）释义

以上为Atomic Vapor Deposition英文缩略词AVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

Atomic hydrogen plays important roles in chemical vapor deposition of functional materials, plasma etching, and surface cleaning.
在化学气相沉积功能材料等离子体刻蚀及表面处理等过程中，氢原子起着非常重要的作用。
Various growth techniques of ZnO thin films, including magnetro sputtering, chemical vapor deposition, spray pyrolysis, sol gel processing, pulsed laser deposition, molecular beam epitaxy, atomic layer epitaxy and metal organic chemical vapor deposition were reviewed.
详细介绍了各种制备氧化锌薄膜的方法，包括磁控溅射法、化学气相沉积法、喷雾热解法、溶胶凝胶法、激光脉冲沉积法、分子束外延法、原子层外延生长法。
Chemical beam epitaxy, atomic layer epitaxy, migration enhanced epitaxy, selective area epitaxy, laser-assisted epitaxy and low temperature Si epitaxy are new ultrathin epitaxial techniques developed based on molecular beam epitaxy and metallorganic chemical vapor deposition.
化学束外延、原子层外延、迁移增强外延、选择区域外延、激光辅助外延和低温Si外延等是在分子束外延和金属有机化学气相沉积基础上发展起来的几种新型超薄层外延技术。

上述内容是“Atomic Vapor Deposition”作为“AVD”的缩写，解释为“原子气相沉积”时的信息，以及英语缩略词AVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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