英语缩略词“DCVD”经常作为“Dielectric Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“介质化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词DCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词DCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“DCVD”（“介质化学气相沉积）释义

• 英文缩写词：DCVD
• 英文单词：Dielectric Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：介质化学气相沉积
• 中文拼音：jiè zhì huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Dielectric Chemical Vapor Deposition英文缩略词DCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词DCVD的扩展资料

1. The paper put forward an aim to deposit titanium films and TiO_2 / SnO_2 : F multiple films prepared by the method of dielectric barrier discharge atmospheric pressure chemical vapor deposition ( DBD-CVD ).
   提出以介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）制备TiO2单层薄膜和TiO2/SnO2：F复合薄膜的实验目标。
2. Study on the Dielectric Properties of Diamond Thin Film Prepared by Chemical Vapor Deposition
   CVD金刚石薄膜的介电性能研究
3. Preparation of Low Dielectric Constant SiCOF thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
   等离子体化学气相淀积新型低介电常数SiCOF介质薄膜

上述内容是“Dielectric Chemical Vapor Deposition”作为“DCVD”的缩写，解释为“介质化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词DCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。